本公司的精密陶瓷為半導體製造裝置的主要材料,且被應用在各個地方,而材料主要有A120,其他還有A1N、Sic、ZrO2、Si3N4等。
(当社のファインセラミックスは半導体製造装置のキーマテリアルとして、至る所で用いられています。材料としては、アルミナのほか、AlN, SiC, ZrO2, Si3N4があります。)
另外.氣孔數極少的PoreFree系列也包含在內.
(また、気孔の数が極めて少ないPoreFreeというシリーズも取り揃えています。)
我們對於高精度的研磨技術及技術評價相當有信心.
(精度の高い研磨技術と評価技術が自慢です。)
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